Piikarbidipinnoite

VeTek Semiconductor on erikoistunut ultrapuhtaiden piikarbidipinnoitetuotteiden tuotantoon. Nämä pinnoitteet on suunniteltu levitettäväksi puhdistetuille grafiitille, keramiikalle ja tulenkestävälle metallikomponentille.

Puhtaat pinnoitteemme on ensisijaisesti tarkoitettu käytettäväksi puolijohde- ja elektroniikkateollisuudessa. Ne toimivat suojakerroksena kiekkokannattimille, suskeptoreille ja lämmityselementeille ja suojaavat niitä syövyttäviltä ja reaktiivisilta ympäristöiltä, joita kohdataan prosesseissa, kuten MOCVD ja EPI. Nämä prosessit ovat olennaisia kiekkojen käsittelyssä ja laitevalmistuksessa. Lisäksi pinnoitteemme soveltuvat hyvin tyhjiöuuneihin ja näytelämmitykseen, joissa kohdataan suurtyhjiö, reaktiivinen ja happiympäristö.

VeTek Semiconductorilla tarjoamme kattavan ratkaisun edistyneillä konepajaominaisuuksillamme. Näin voimme valmistaa peruskomponentit grafiitista, keramiikasta tai tulenkestävästä metallista ja levittää SiC- tai TaC-keraamiset pinnoitteet talon sisällä. Tarjoamme myös asiakkaiden toimittamien osien pinnoituspalveluita, mikä varmistaa joustavuuden erilaisiin tarpeisiin.

Piikarbidipinnoitetuotteitamme käytetään laajalti Si-epitaksissa, SiC-epitaksissa, MOCVD-järjestelmässä, RTP/RTA-prosessissa, etsausprosessissa, ICP/PSS-etsausprosessissa, erilaisten LED-tyyppien prosessissa, mukaan lukien sininen ja vihreä LED, UV-LED ja syvä-UV. LED jne., joka on mukautettu LPE:n, Aixtronin, Veecon, Nuflaren, TEL:n, ASM:n, Annealsysin, TSI:n ja niin edelleen laitteisiin.

Voimme tehdä reaktorin osat:

Piikarbidipinnoitteella on useita ainutlaatuisia etuja:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek Semiconductor piikarbidipinnoitteen parametri

CVD SiC -pinnoitteen fysikaaliset perusominaisuudet
Omaisuus	Tyypillinen arvo
Kristallirakenne	FCC β-faasi monikiteinen, pääasiassa (111) orientoitu
SiC pinnoite Tiheys	3,21 g/cm³
SiC pinnoite Kovuus	2500 Vickersin kovuus (kuorma 500 g)
viljan koko	2-10 μm
Kemiallinen puhtaus	99,99995 %
Lämpökapasiteetti	640 J·kg^-1·K^-1
Sublimaatiolämpötila	2700℃
Taivutusvoima	415 MPa RT 4-piste
Youngin Modulus	430 Gpa 4pt taivutus, 1300 ℃
Lämmönjohtavuus	300 W·m^-1·K^-1
Lämpölaajeneminen (CTE)	4,5×10-6K^-1

CVD SIC FILM CRYSTAL RAKENNE

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

Piikarbidilla päällystetty Epi-suskeptori SiC Coating Wafer Carrier SiC-pinnoitettu satelliittikansi MOCVD:lle CVD SiC Coating Wafer Epi Susceptor CVD SiC pinnoite Lämmityselementti Aixtron Satelliittikiekon alusta SiC Coating Epi vastaanotin SiC-pinnoite puolikuun grafiittiosat

View as

MOCVD -epitaksiaalinen kiekko tarjoaa

Vetek Semiconductor on harjoittanut puolijohdetieteellisen epitaksiaalisen kasvuteollisuutta pitkään ja hänellä on rikas kokemus ja prosessitaidot MOCVD -epitaksiaalisten kiekkojen alttiiden tuotteissa. Nykyään Vetek -puolijohdosta on tullut Kiinan johtava MOCVD -epitaksiaalikiekko -alttiiden valmistaja ja toimittaja, ja sen tarjoamilla kiekkojen alttiilla on ollut tärkeä rooli GAN -epitaksiaalisten kiekkojen ja muiden tuotteiden valmistuksessa.

Katso lisää >> Lähetä kysely >>

Pystysuora uunin sic -päällystetty rengas

Pystyuunin SiC-pinnoitettu rengas on erityisesti pystysuoraan uuniin suunniteltu komponentti. VeTek Semiconductor voi tehdä sinulle parhaasi sekä materiaalien että valmistusprosessien suhteen. VeTek Semiconductor on johtava pystysuoran uunin piikarbidipinnoitettujen renkaiden valmistaja ja toimittaja Kiinassa, ja se on varma, että voimme tarjota sinulle parhaat tuotteet ja palvelut.

Katso lisää >> Lähetä kysely >>

Gan -epitaksiaalinen Undertaker

Vetek Semiconductor Gan -epitaksiaalisen herkkyyden johtavana GAN-epitaksiaalisessa alttiita ja valmistajana Kiinassa on GAN-epitaksiaalista kasvuprosessia, jota käytetään epitaksiaalisten laitteiden, kuten CVD: n ja MOCVD: n, tukemiseen suunniteltu erittäin tarkkuus herkkailija. GAN-laitteiden (kuten tehoelektronisten laitteiden, RF-laitteiden, LED-laitteiden jne.) Valmistuksessa GAN-epitaksiaaliherkkijä kantaa substraattia ja saavuttaa GAN-ohutkalvojen korkealaatuisen laskeutumisen korkean lämpötilan ympäristössä. Tervetuloa lisäkyselysi.

Katso lisää >> Lähetä kysely >>

Sic -päällystetty kiekko -kantoaalto

Johtavana piikarbidilla päällystettyjen kiekkojen alustan toimittajana ja valmistajana Kiinassa VeTek Semiconductorin SiC-pinnoitettu kiekkoteline on valmistettu korkealaatuisesta grafiitista ja CVD SiC -pinnoitteesta, jolla on superstabiilisuus ja joka voi toimia pitkään useimmissa epitaksiaalisissa reaktoreissa. VeTek Semiconductorilla on alan johtavat prosessointiominaisuudet ja se pystyy täyttämään asiakkaiden erilaisia räätälöityjä vaatimuksia piikarbidilla päällystetyille kiekkotelineille. VeTek Semiconductor odottaa innolla pitkäaikaisen yhteistyösuhteen luomista kanssasi ja yhdessä kasvamista.

Katso lisää >> Lähetä kysely >>

SiC Coating grafiitti MOCVD lämmitin

Vetek Semiconductor tuottaa sic -pinnoitusgrafiitti -MOCVD -lämmittimen, joka on MOCVD -prosessin avainkomponentti. Perustuen korkean puhtaan grafiittialustaan, pinta päällystetään korkean puhtaan sic-pinnoitteella erinomaisen korkean lämpötilan stabiilisuuden ja korroosionkestävyyden aikaansaamiseksi. Laadukkaiden ja erittäin räätälöityjen tuotepalvelujen avulla Vetek Semiconductorin sic -pinnoitusgrafiitti MOCVD -lämmitin on ihanteellinen valinta MOCVD -prosessin vakauden ja ohuiden kalvojen laskeutumisen laadun varmistamiseksi. Vetek Semiconductor odottaa tulevan kumppaniksi.

Katso lisää >> Lähetä kysely >>

Piharbidilla päällystetty EPI -alttiu

Vetek Semiconductor on johtava SIC -pinnoitustuotteiden valmistaja ja toimittaja Kiinassa. Vetek Semiconductorin piikarbidilla päällystetyllä EPI -alttiulla on alan huippulaatu, se sopii monille epitaksiaalisten kasvuuunien tyyleille ja tarjoaa erittäin räätälöityjä tuotepalveluita. Vetek Semiconductor odottaa saavansa pitkäaikaisen kumppanisi Kiinassa.

Katso lisää >> Lähetä kysely >>

Ammattimaisena Piikarbidipinnoite valmistajana ja toimittajana Kiinassa meillä on oma tehdas. Tarvitsetko räätälöityjä palveluita alueen erityistarpeiden tyydyttämiseksi tai haluat ostaa edistyneitä ja kestävää Piikarbidipinnoite, joka on valmistettu Kiinassa, voit jättää meille viestin.

QR koodi

Meistä

Tuotteet

Ota meihin yhteyttä

Puhelin
+86-18069220752
Faksi
+86-579-87223657
Sähköposti
anny@veteksemi.com
Osoite
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, Jinhua City, Zhejiangin maakunta, Kiina

Web-valikko

Tuotehaku

Kieli

Poistu valikosta

Piikarbidipinnoite

Voimme tehdä reaktorin osat:

Piikarbidipinnoitteella on useita ainutlaatuisia etuja:

VeTek Semiconductor piikarbidipinnoitteen parametri

CVD SIC FILM CRYSTAL RAKENNE

MOCVD -epitaksiaalinen kiekko tarjoaa

Pystysuora uunin sic -päällystetty rengas

Gan -epitaksiaalinen Undertaker

Sic -päällystetty kiekko -kantoaalto

SiC Coating grafiitti MOCVD lämmitin

Piharbidilla päällystetty EPI -alttiu

Lähetä kysely

QR koodi

Meistä

Tuotteet

Ota meihin yhteyttä

Puhelin

Faksi

Sähköposti

Osoite