ICP/PSS-etsausprosessi

VeTek Semiconductor ICPPSS (Induktiivisesti kytketty Plasma Photoresist Stripping) Etching Process Wafer Carrier on suunniteltu erityisesti täyttämään puolijohdeteollisuuden etsausprosessien vaativat vaatimukset. Edistyneiden ominaisuuksiensa ansiosta se varmistaa optimaalisen suorituskyvyn, tehokkuuden ja luotettavuuden koko etsausprosessin ajan.

VeTek Semiconductor ICP/PSS Etching Process Susveptoreiden etu:

Parannettu kemiallinen yhteensopivuus: Kiekkojen alusta on rakennettu materiaaleista, jotka ovat erinomaisesti kemiallisesti yhteensopivia etsausprosessin kemian kanssa. Tämä varmistaa yhteensopivuuden useiden etsausaineiden, vastustuskykyisten irrotusaineiden ja puhdistusliuosten kanssa minimoiden kemiallisten reaktioiden tai saastumisen riskin.

Korkean lämpötilan kesto: kiekkoteline on suunniteltu kestämään etsausprosessin aikana esiintyviä korkeita lämpötiloja. Se säilyttää rakenteellisen eheytensä ja mekaanisen lujuutensa estäen muodonmuutoksia tai vaurioita jopa äärimmäisissä lämpöolosuhteissa.

Ylivoimainen etsaustasaisuus: Telineessä on tarkasti suunniteltu muotoilu, joka edistää etsausaineiden ja kaasujen tasaista jakautumista kiekon pinnalla. Tämä johtaa tasaisiin etsausnopeuksiin ja korkealaatuisiin, yhtenäisiin kuvioihin, jotka ovat välttämättömiä tarkkojen ja luotettavien etsaustulosten saavuttamiseksi.

Erinomainen kiekkojen vakaus: Teline sisältää turvallisen kiekon kiinnitysmekanismin, joka varmistaa vakaan asennon ja estää kiekkojen liikkumisen tai liukumisen etsausprosessin aikana. Tämä takaa tarkat ja toistettavat etsauskuviot minimoiden viat ja tuottohäviöt.

Yhteensopivuus puhdastiloissa: kiekkoteline on suunniteltu täyttämään tiukat puhdastilastandardit. Siinä on alhainen hiukkasten muodostus ja erinomainen puhtaus, mikä estää hiukkaskontaminaation, joka voisi vaarantaa etsausprosessin laadun ja tuoton. Epäpuhtaudet ovat alle 5 ppm.

Vankka ja kestävä rakenne: Teline on suunniteltu käyttämällä korkealaatuisia materiaaleja, jotka tunnetaan kestävyydestään ja pitkästä käyttöiästään. Se kestää toistuvaa käyttöä ja tiukkoja puhdistusprosesseja vaarantamatta sen suorituskykyä tai rakenteellista eheyttä.

Mukautettava suunnittelu: Tarjoamme räätälöityjä vaihtoehtoja vastaamaan asiakkaiden erityisvaatimuksia. Teline voidaan räätälöidä erikokoisille, -paksuisille ja prosessispesifikaatioille sopivaksi, mikä varmistaa yhteensopivuuden erilaisten etsauslaitteiden ja prosessien kanssa.

Koe ICP/PSS-etsausprosessin kiekkotelineemme luotettavuus ja suorituskyky, joka on suunniteltu optimoimaan etsausprosessi puolijohdeteollisuudessa. Sen parannettu kemiallinen yhteensopivuus, korkean lämpötilan kestävyys, erinomainen syövytyksen tasaisuus, erinomainen kiekkojen vakaus, puhdastilayhteensopivuus, vankka rakenne ja mukautettava muotoilu tekevät siitä ihanteellisen valinnan etsaussovelluksiin.

PSS-etsauslevy ICP-etsauslevy ICP-etsaussuskeptori