Uutiset

Vetek Semiconductorin asiakkaat vierailivat 5. syyskuuta sic -päällystys- ja TAC -päällystystehtaissa ja pääsivät uusimmista epitaksiaaliprosessiratkaisuista lisää sopimuksia.

Puolalainen asiakas vieraili 5.9.2025 VETEKin alaisuudessa sijaitsevalla tehtaalla oppimassa edistyneistä teknologioistamme ja innovatiivisista prosesseistamme hiilikuitutuotteiden valmistuksessa.

Onko CVD Solid SiC investoinnin arvoinen? Vertaa monoliittisen piikarbidin ROI:ta perinteisiin grafiittipinnoitteisiin. Opi, kuinka ylivoimainen plasmaresistanssi ja laajennettu MTBC johtavat alhaisempiin kiekkojen romumääriin ja pidemmäksi laitteiden käyttöajaksi 12 tuuman HVM-linjoilla.

Erittäin puhtaat materiaalit ovat välttämättömiä puolijohteiden valmistuksessa. Näihin prosesseihin liittyy äärimmäistä lämpöä ja syövyttäviä kemikaaleja. CVD-SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) tarjoaa tarvittavan vakauden ja lujuuden. Se on nyt ensisijainen valinta edistyneiden laitteiden osille korkean puhtautensa ja tiheytensä vuoksi.

Silicon Carbide (SiC) -puolijohteiden maailmassa suurin osa valokeilasta loistaa 8 tuuman epitaksiaalisissa reaktoreissa tai kiekkojen kiillotuksen monimutkaisissa tilanteissa. Kuitenkin, jos jäljitämme toimitusketjun aivan alkuun - fyysisen höyryn kuljetuksen (PVT) -uunin sisällä, perustavanlaatuinen "materiaalien vallankumous" on hiljaa tapahtumassa.

Nopean MEMS-evoluution (Micro-Electromechanical Systems) aikakaudella oikean pietsosähköisen materiaalin valinta on laitteen suorituskyvyn kannalta ratkaiseva ratkaisu. PZT (Lead Zirconate Titanate) -ohutkalvokiekot ovat nousseet ensisijaisiksi vaihtoehdoiksi vaihtoehtoihin, kuten AlN (alumiininitridi), tarjoavat erinomaisen sähkömekaanisen kytkennän huippuluokan antureille ja toimilaitteille.