Tervetuloa asiakkaat vierailemaan Veeksemiconin sic -pinnoite-/ tac -pinnoittelu- ja epitaksiprosessitehdas

Asiakkaat vierailevat tehtaalla: edistävät uutta yhteistyöluvua

Äskettäin meillä on erittäin kunnia vastaanottaa tärkeitä asiakkaita monilta alueilta ympäri maailmaa käydäkseen Veek Semiconductorin tehtaalla Kiinassa. Tämä vierailu ei vain anna asiakkaille mahdollisuuden saada syvällinen käsitys teknologisesta innovaatiostamme ja tuotantovoimastamme aloillaPuolijohdetiedostoprosessija puolijohdepinnoite, mutta myös syventää edelleen yhteistyösuhteitamme asiakkaisiin.

Veeksemicon -asiakkaat tarkastavat taantalimarbidilla päällystetyn epitaksiaalisen herkkyyden yksityiskohdat

Tehdasvierailu: Perusteellinen käsitys tuotantoprosessista

Vierailun aikana asiakkaat osoittivat suurta kiinnostustaPiikarbidipinnoitejaTantaalikarbidipinnoiteTuotantolinjat. T & K -tiimimme esitteli yksityiskohtaisesti tuotteiden tekniset edut ja tiukka laadunvalvontajärjestelmä. Pihihyökkäyspinnoitteen ja tantaalikarbidipinnoitteen johtavana valmistajana olemme aina sitoutuneet soveltamaan huipputeknologiaa tuotesuunnitteluun ja valmistukseen varmistaaksemme, että jokainen komponentti täyttää kansainväliset standardit ja pystyy vastaamaan eri asiakkaiden tarpeisiin.

Teknologian näyttö: Teollisuuden kehityksen suuntaa

Vierailun aikana yrityksemme osoitti viimeisimmän kehittyneenEpitaksiaaliprosessiratkaisu, kattaa koko prosessin suunnittelusta, tuotannosta laatutarkastukseen. Asiakkaat ovat tunnustaneet innovaatiokykymme, ja ne ovat täynnä odotuksia tulevalle yhteistyölle. Erityisesti puolijohdekainasovellusten alalla Veek Semiconductor edistää jatkuvasti teollisuuden kehitystä ainutlaatuisilla teknisillä eduillaan ja markkinoiden näkemyksillä.

Tulevat näkymät: syventää yhteistyötä ja win-win-tulevaisuutta

Tämä asiakasvierailu ei ole vain tuotantovoiman tunnustaminen, vaan se on myös vankka perusta tulevaisuuden osapuolten pitkäaikaiselle yhteistyölle. Uskomme, että molempien osapuolten yhteisillä ponnisteluilla saavutamme hedelmällisempiä tuloksiapuolijohdetiedostoprosessija puolijohdepinnoite tulevaisuudessa.