Tuotteet
Erittäin puhdas kvartsietsausrengas
  • Erittäin puhdas kvartsietsausrengasErittäin puhdas kvartsietsausrengas

Erittäin puhdas kvartsietsausrengas

Kuivaplasman etsauskammiot perustuvat tarkkaan rajojen hallintaan kiekon ympärillä plasman tiheyden, kaasun virtauksen ja sähkökentän jakautumisen pitämiseksi vakaana. VeTek Semiconductor High Purity Quartz Etch Rings -renkaat ovat puolijohdeluokan kammiokomponentteja, jotka on valmistettu dehydroksyloidusta sulatetusta kvartsista. Ne määrittelevät prosessivyöhykkeen kiekon reunassa, auttavat rajoittamaan plasmaa, tasoittavat kaasun virtausta ja suojaavat kiekon reunaa – tukevat tasaisempia etsausnopeuksia ja puhtaampia profiileja 2–12 tuuman pii-, SiC-, GaN- ja safiirikiekoissa.

1.Tärkeimmät ominaisuudet ja edut

• Puolijohdeluokan dehydroksyloitu sulatettu kvartsi, jossa SiO₂ ≥ 99,999 % ja tiukasti kontrolloituja metallisia epäpuhtauksia

• Vakaa jatkuva toiminta 1100 °C asti, lyhytkestoinen toimintakyky lähes 1200 °C

• Kestää vahvasti fluori- ja klooripohjaisia ​​etsauskemiallisia aineita ja korkean energian plasmaaltistusta

• Alhainen lämpölaajeneminen ja hyvä lämpöshokkisuorituskyky toistuvissa kammion lämpötilajaksoissa

• Alhainen tyhjiökaasun poisto kammion pohjapaineen ja prosessikaasun koostumuksen suojaamiseksi

• Mikronitason mittasäätö kiillotetuilla kosketuspinnoilla takaa yhtenäisen kammion sovituksen ja plasmarajan määrittelyn

• Muokattavat mallit: litteät renkaat, porrastetut etsausrenkaat, paikannus-/kiinnitysrenkaat ja täysin mukautetut profiilit tärkeimmille etsaustyökalualustoille

2.Tyypilliset sovellukset

Erittäin puhtaita kvartsietsausrenkaita käytetään kuivaplasmaetsausprosessikammioissa seuraaviin tarkoituksiin:

• Logiikka- ja muistilaitteen plasmaetsausvaiheet

• SiC- ja GaN-teholaitteen etsausprosessit

• Korkean kuvasuhteen rakenne etch

• Optinen ja yhdiste-puolijohdesubstraatti plasmakäsittely

• Kehittynyt pakkaus plasmaetch ja siihen liittyvät puhdistusvaiheet

• RIE / ICP laboratorio- ja tuotantoetsaustyökalut

3.Tärkeimmät tekniset parametrit

• Materiaali: puolijohdeluokan dehydroksyloitu sulatettu kvartsi, SiO₂ ≥ 99,999 %

• Kiekkojen yhteensopivuus: 2/4/6/8/12 tuuman pii, SiC, GaN ja safiiri

• Käyttölämpötila: −20 °C - 1100 °C jatkuvatoiminen; lyhytaikainen huippu noin 1200 °C

• Päätoiminnot: plasmareunojen sulkeminen, kaasuvirtauksen ohjaus, reunasuojaus ja kammion eristys

• Työstölaatu: mikronitason toleranssit, kiillotetut pinnat, kontrolloidut reunat ja puhdas viimeistely

• Rakennevaihtoehdot: litteä rengas, porrastettu etsausrengas, paikannus-/kiinnitysrengas ja mukautetut geometriat

• Räätälöinti: ulko-/sisähalkaisija, paksuus, askelkorkeus, paikannusominaisuudet, viisteet ja käyttöliittymän yksityiskohdat piirustuksen mukaan

4.Miksi valita VeTekin korkean puhtauden kvartsietsausrenkaat?

VeTek Semiconductor toimittaa prosessikriittistä kvartsilaitteistoa etsaus- ja lämpötyökaluille. Syövytysrenkaiden kohdalla painopiste on:

• Materiaalin puhtaus ja pinnan puhtaus sopivat edistyneisiin kuivaetsausympäristöihin

• Mittatarkkuus, joka tukee vakaata plasmarajan ohjausta ja toistettavaa kammion sovitusta

• Suunnittelun joustavuutta OEM-tyyppiseen vaihtoon ja täysin mukautettuihin kammioliitäntöihin

• Täydellinen kvartsikomponenttivalikoima, joka sisältää myös kiekkojen alustat, uuniputket, veneet ja niihin liittyvät prosessiosat

Yhdistämällä korkean puhtauden, plasman kestävyyden ja tiukan geometrian hallinnan VeTekin korkean puhtauden kvartsietsausrenkaat auttavat parantamaan kiekkojen välistä etsauksen tasaisuutta, vähentämään reunoihin liittyviä vikoja ja tukemaan pidempiä ja vakaampia tuotantojaksoja kuivassa plasmaetsaustyökalussa.

Lähetä kysely
Yhteystiedot
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
X
Käytämme evästeitä tarjotaksemme sinulle paremman selauskokemuksen, analysoidaksemme sivuston liikennettä ja mukauttaaksemme sisältöä. Käyttämällä tätä sivustoa hyväksyt evästeiden käytön. Tietosuojakäytäntö
HylätäHyväksyä