Tantaalikarbiditeknologian läpimurto, sic -epitaksiaalinen pilaantuminen väheni 75%?

Äskettäin saksalainen tutkimuslaitos Fraunhofer IISB on tehnyt läpimurron tutkimuksessa ja kehittämisessäTantaalikarbidipinnoitustekniikka, ja kehitti suihkutuspinnoitusliuoksen, joka on joustavampi ja ympäristöystävällisempi kuin CVD -kerrostumisratkaisu, ja se on kaupallistettu.

Ja kotimainen Vetek -puolijohde on myös tehnyt läpimurtoja tällä alalla, katso alla.

Fraunhofer IISB:

Uuden TAC -pinnoitustekniikan kehittäminen

Median mukaan 5. maaliskuuta "Puolijohde", Fraunhofer IISB on kehittänyt uudenTantaalikarbidi (TAC) pinnoitustekniikka-Taccotta. Teknologialisenssi on siirretty Nippon Kornmeyer Carbon Group -ryhmään (NKCG), ja NKCG on alkanut tarjota asiakkailleen TAC-päällystettyjä grafiittiosia.

Perinteinen menetelmä TAC -pinnoitteiden tuottamiseksi teollisuudessa on kemiallinen höyryn laskeuma (CVD), joka on haittoja, kuten korkeat valmistuskustannukset ja pitkät toimitusajat. Lisäksi CVD -menetelmä on alttiina myös TAC: n halkeamiselle komponenttien toistuvan lämmityksen ja jäähdytyksen aikana. Nämä halkeamat paljastavat taustalla olevan grafiitin, joka huononee vakavasti ajan myötä ja jotka on vaihdettava.

Taccotta-innovaatio on, että se käyttää vesipohjaista ruiskutuspäällystysmenetelmää, jota seuraa lämpötilakäyttö TAC-pinnoitteen muodostamiseksi, jolla on korkea mekaaninen stabiilisuus ja säädettävä paksuusgrafiittialusta. Pinnoitteen paksuutta voidaan säätää 20 mikronista 200 mikroniin erilaisiin sovellusvaatimuksiin.

Fraunhofer IISB: n kehittämä TAC -prosessitekniikka voi säätää vaaditut pinnoitusominaisuudet, kuten paksuus, kuten alla on esitetty 35 μm - 110 μm.

Erityisesti Taccotta -suihkepinnoitteessa on myös seuraavat keskeiset ominaisuudet ja edut:

● Ympäristöystävällisempi: Vesipohjaisella ruiskutuspinnoitteella tämä menetelmä on ympäristöystävällisempi ja helppo teollistua;

● Joustavuus: Taccotta -tekniikka voi sopeutua erikokoisiin ja geometrioihin liittyviin komponentteihin, mikä mahdollistaa osittaisen päällysteen ja komponenttien kunnostamisen, mikä ei ole mahdollista CVD: ssä.

● SIC -epitaksiaalisessa valmistuksessa käytetään vähentynyttä tantaalien pilaantumista: grafiittikomponentteja, joissa on taccotta -pinnoite, ja tantaalien pilaantuminen vähenee 75% verrattuna olemassa olevaan verrattunaCVD -pinnoitteet.

● Kulutuskestävyys: naarmuuntuneet testit osoittavat, että pinnoitteen paksuuden lisääminen voi parantaa merkittävästi kulumiskestävyyttä.

Raaputuskoe

On todettu, että NKCG: n kaupallistamista varten on edistetty tekniikka, joka keskittyy korkean suorituskyvyn grafiittimateriaalien ja siihen liittyvien tuotteiden tarjoamiseen. NKCG osallistuu myös Taccotta -tekniikan kehittämiseen tulevaisuudessa pitkään. Yhtiö on alkanut tarjota asiakkailleen grafiittikomponentteja, jotka perustuvat Taccotta -tekniikkaan.

Vetek -puolijohde edistää TAC: n lokalisointia

Veten Semiconductor käynnisti vuoden 2023 alussa uuden sukupolvenSic -kristallin kasvulämpökenttämateriaali-huokoinen tantaalikarbidi.

Raporttien mukaan Vetek Semiconductor on käynnistänyt läpimurtonhuokoinen tantaalikarbidisuurella huokoisuudella riippumattoman teknologian tutkimuksen ja kehityksen avulla. Sen huokoisuus voi saavuttaa jopa 75%, saavuttaen kansainvälisen johtamisen.