Uutiset

Syvällinen analyysi reunojen kellastumisen ja piikarbidipinnoitteen kuoriutumisen syistä MOCVD-epitaksigrafiittisuskeptoreissa. VeTek eliminoi mikrorasituksen säätämällä tarkasti alkuperäistä CVD-pinnoitusnopeutta ja virtauskenttää, lisäämällä pinnoitteen saantoa 50 %:sta 90 %:iin ja pidentämällä erittäin puhtaiden grafiittiosien käyttöikää.

VeTek Semi paransi suskeptorin tasoisuuden <0,08 mm:iin ja pienensi vaihtelun 0,69 prosenttiin CVD-virtauskentän simulaation ja erittäin tarkan SiC-pinnoitteen avulla, mikä parantaa kiekkojen tuottoa.

Opi, kuinka Vetek eliminoi säteittäisen halkeilun suurikokoisissa MOCVD SiC -pinnoitetuissa grafiittisuskeptoreissa. Rakenteellisen jännityspuskurin uudelleensuunnittelu ja CTE-sovitus pidensi käyttöikää yli 300 %.

Kymmenen vuotta piikarbidin kehitystä – varhaisista 4 tuuman kaupallistamishaasteista nykypäivän 8 tuuman kiekkojen muutokseen. Tutustu, kuinka CVD SiC -pinnoitteet, Solid SiC ja TaC -materiaalit mahdollistavat luotettavan puolijohteiden valmistuksen.

Opi kuinka CVD SiC -pinnoitetut grafiittisuskeptorit parantavat epitaksiaalista kasvua parantamalla lämpötasaisuutta, vähentämällä kontaminaatiota ja pidentämällä komponenttien käyttöikää SiC-, GaN-, LED- ja piipuolijohteiden valmistuksessa.

Tutustu kuinka TaC-pinnoitetut grafiittilämmittimet parantavat lämpötilan tasaisuutta, vähentävät energiankulutusta ja pidentävät käyttöikää GaN MOCVD -epitaksissa verrattuna perinteisiin pBN-päällystettyihin lämmittimiin.

Tutustu kuinka CVD TaC -pinnoite parantaa piikarbidikiteiden kasvua PVT-uuneissa vähentämällä hiilikontaminaatiota, suojaamalla grafiittikomponentteja, pidentämällä käyttöikää ja parantamalla kiteiden laatua edistyneessä puolijohdevalmistuksessa.

Ota selvää, miksi CVD TaC -pinnoitteesta on tulossa suosituin suojaratkaisu puolijohdegrafiittikomponenteille. Opi sen edut, sovellukset piikarbidikiteiden kasvatuksessa, GaN MOCVD:ssä ja kiekkojen alustassa sekä kuinka se parantaa kestävyyttä, puhtautta ja prosessin vakautta.

Opi kuinka VETEK Pyrolytic Carbon (PyC) -pinnoitetut grafiittirenkaat parantavat lämpöstabiilisuutta, vähentävät kontaminaatiota ja pidentävät komponenttien käyttöikää piikarbidikiteiden kasvu-, epitaksi-, CVD- ja korkean lämpötilan puolijohdeprosesseissa.

Tutustu kuinka CVD TaC -pinnoite parantaa piikarbidikiteiden kasvua ja puolijohteiden valmistusta erittäin korkealla lämpöstabiiliudella, korroosionkestävyydellä, epäpuhtauksien estämisellä ja erinomaisella suorituskyvyllä MOCVD- ja epitaksisovelluksissa.

Katso tärkeimmät Aixtron G10 -komponentit korkean lämpötilan piikarbidiepitaksijärjestelmille. Käsittelemme CVD SiC -pinnoitetut grafiittiosat, TaC-pinnoitekomponentit ja lämpökenttärakenteet – ja kuinka ne auttavat parantamaan prosessin vakautta, puhtauden hallintaa ja kiekkojen tuottoa edistyneessä puolijohteiden valmistuksessa.

Opi, mikä Halfmoon-komponentti on LPE-reaktiokammiossa ja miten se tukee lämpöstabiilisuutta, kaasuvirran hallintaa ja reaktorin rakennetta piikarbidin epitaksijärjestelmissä. Tutustu grafiittimateriaaleihin, CVD SiC -pinnoitteeseen, TaC-pinnoitteeseen ja nykyaikaisiin puolijohdereaktoritekniikoihin.

Kamppailetko MicroLED-tuottoasteiden kanssa? Ota selvää, miksi alan johtavat yritykset siirtyvät käyttämään piikarbidialustoja ja TaC-pinnoitettuja MOCVD-komponentteja ratkaistakseen lämpörasituksen ja hiukkaskontaminaation. Opi CVD SiC:n tekniset reunat seuraavan sukupolven GaN-näytöille

Tutki, miten CVD SiC -pinnoitetta käytetään puolijohdeprosesseissa, mukaan lukien sen rakenne, suorituskykyominaisuudet ja tyypilliset sovellukset sekä sen merkitys korkeissa lämpötiloissa.

Onko CVD Solid SiC investoinnin arvoinen? Vertaa monoliittisen piikarbidin ROI:ta perinteisiin grafiittipinnoitteisiin. Opi, kuinka ylivoimainen plasmaresistanssi ja laajennettu MTBC johtavat alhaisempiin kiekkojen romumääriin ja pidemmäksi laitteiden käyttöajaksi 12 tuuman HVM-linjoilla.

Erittäin puhtaat materiaalit ovat välttämättömiä puolijohteiden valmistuksessa. Näihin prosesseihin liittyy äärimmäistä lämpöä ja syövyttäviä kemikaaleja. CVD-SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) tarjoaa tarvittavan vakauden ja lujuuden. Se on nyt ensisijainen valinta edistyneiden laitteiden osille korkean puhtautensa ja tiheytensä vuoksi.