Puolijohdekeraaminen suutin

Puolijohdekeraamisuuttimella on tärkeä rooliHDP-CVD-prosessi, jota käytetään kaasuvirran tarkkaan ohjaamiseen ja varmistamiseenkorkealaatuinen elokuvan laskeutuminen. Keraaminen suutinsuihku on suunniteltu tarkasti varmistamaan tasaiset ja hallittavat kaasuvirtaukset, minimoiden mahdollisen turbulenssin, kun kaasu tulee reaktiokammioon.

Tekniset tiedot:

1.Materiaalikoostumus:

Vetek -puolijohdekeraaminen hiekan räjäyssuuttimen tyypillisesti valmistettu puolijohdekeramiikasta, kuten alumiinioksidista (AL2O3),Piharbidi (sic)tai zirkoniumoksidi (ZrO2), näillä materiaaleilla on erinomaiset ominaisuudet:

    • Korkea lämpöstabiilisuus (kestää lämpötilat yli 1000 ℃)

    • reaktiivisten kaasujen korroosionkestävyysCVD-prosessit(kuten silaani, ammoniakki)

    • kestää jatkuvaa plasmaaltistusta.

2. Rakennesuunnittelu:

    • Aukon koko: Puolijohde -keraamisen suuttimen aukko on tieteellisesti suunniteltu mahdollistamaan kaasun virtauksen tarkan hallinnan, mikä puolestaan ​​vaikuttaa kalvon yhdenmukaisuuteen ja paksuuteen.

    • Kulmat ja geometriat: tarkkaan suunniteltu varmistamaan tasainen kaasujakauma substraatin yli minimoimalla talletetun kerroksen puutteet.

Puolijohdeteollisuudessa puolijohdekeraamisella räjähdyssuuttimella on avainasemassa pääasiassa HDP-CVD-prosessissa. Niitä käytetään myös ohuiden kalvojen keräämiseen mikroelektroniikan tuottamiseksi, mikä varmistaa tasaiset pintapinnoitteet, jotka ovat tasaisia ​​ja ilman epäpuhtauksia.

Vetek Semiconductor Ceraamic -suuttimen kaupat: