QR koodi
Tietoja meistä
Tuotteet
Ota meihin yhteyttä


Faksi
+86-579-87223657

Sähköposti

Osoite
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, Jinhua City, Zhejiangin maakunta, Kiina
|
Arviointiulottuvuus/tuote |
Yksityiskohtaiset suunnitteluparametrit ja toimitettu arvo |
|
Teollisuus |
Puolijohteiden valmistus, mikroelektroniikan pakkaukset, optinen viestintä, tekninen keramiikka (GTMS/CTMS hermeettinen tiivistyskenttä) |
|
Käsitellä |
GTMS/CTMS lasi/keramiikka metalliin hermeettinen tiivistys korkean lämpötilan sintraus, CTE tarkka lämpösovituskiinnitys |
|
Ratkaisu |
Erittäin suuritiheyksinen mikroreikäinen erikoisgrafiittikiinnityslevy (yksittäisen levyn pinta-ala < 0,01㎡, jossa on lähes 1 500 mikroreikää; kokonaispaketti sisältää lähes 10 000 mikroreikää) |
|
Palvelut |
Materiaalin valinta ja CTE:n lämpösovitusanalyysi, mikroreiän syvätyöstötyökalupolun suunnittelu, tekninen tekninen dokumentaatio, erävalmistus ja täydellinen tarkastus |
|
Tulokset |
• Voitti jatkuvan syvän reiän koneistuksen pullonkaulan 10 000 reiässä 10 kuukauden aikana, jolloin saavutettiin mikronitason nollavikahallinta |
GTMS/CTMS-korkean lämpötilan sintrausprosessin aikana mikroelektroniikan pakkauksissa erityisissä grafiittivalaisimissa on yhdistettävä mikronitason sovitus korkeaan lämmönkestävyyteen ja stabiilisuuteen. VeTek käytti 10 kuukautta murtaakseen lähes 10 000 mikroreiän jatkuvan syväkoneistuksen pullonkaulaa materiaalin mukauttamisen, luotettavan kinematiikkarekonstitoinnin ja todellisen monikerroksisen monikerroksisen tarkastuksen avulla.
|
Pääjohtopäätös:Prosessiparametrien ortogonaalinen optimointi mikroreiän syvätyöstössä ja grafiitin valinta CTE-lämpösovituksen perusteella, mikroreiän työstötuotos hyppäsi erän romuriskistä vakaaseen yli 98,5 %:iin. |
Kuva 1 - GTMS/CTMS-erikoisgrafiittikiinnityslevy ja mikroreikätyöstörakenneosat
GTMS-hermeettisessä pakkausprosessissa grafiittikiinnityslevyjen reikien konsistenssi ja lämpömuodonmuutoskestävyys määräävät suoraan pakkauksen hermeettisyyden ja lopputuotteen saannon. Keskeisiä prosessi- ja suoritusindikaattoreita ennen ja jälkeen VeTek-tiimin teknisen läpimurron verrataan seuraavasti:
|
Arviointiulottuvuus |
Ennen parannusta (alkuperäinen prosessin tila) |
Parannuksen jälkeen (VeTekin optimoitu ratkaisu) |
|
Yksilevyinen mikroreiän tiheys |
Lähes 1500 reikää / 0,01㎡ (Työstö, joka on erittäin altis halkeamiselle) |
Lähes 1500 reikää / 0,01㎡ (Mikronitason nollavian muodostuminen) |
|
Jatkuva koneistustyökalun kulumisaste |
Kuluminen ylitti standardin 200 reiän välein, mikä aiheuttaa reiän halkaisijan siirtymisen |
Tarkoitettu pinnoitteen ja polun optimointi, työkalun kulumisaste pienentynyt 65 % |
|
Lämpölaajenemiskertoimen (CTE) sovitus |
Perinteinen grafiitin lämpölaajeneminen oli suhteellisen korkea, mikä johti tapin poikkeamaan |
Täsmällisesti sovitettu Kovar-metalliseoksen laajenemiskäyrä |
|
Kokonaishyväksyntäaste |
Toistuva romu, koska mikronitason toleranssi ylittää rajat (<60 %) |
Vakaa erätoimitusstandardi (≥ 98,5 %) |
|
Pääjohtopäätös:Tiheä lasin ja metallin välinen tiiviste asettaa lähes rajallisia vaatimuksia mikroskooppiselle geometriselle tarkkuudelle ja korkean lämpötilan puhtaudelle erikoisgrafiittivalaisimille. |
Tämän yhteistyön asiakas on korkean luotettavuuden antureisiin ja mikroelektroniikan pakkauskomponentteihin erikoistunut tuotekehitys- ja valmistusyritys. Sen ydintuotantolinjat käyttävät laajasti GTMS/CTMS-sintrausprosesseja (Glass/Ceramic-To-Metal Seal). Korkean lämpötilan tiivistysuuneissa erityiset grafiittikiinnikkeet toimivat erittäin tarkkoina kannatinmuotteina, jotka vastaavat satojen tai tuhansien hienojen metallitappien (kuten Kovar-seos) ja lasiaihioiden tarkasta sijoittamisesta ja pitämisestä. Koska yksittäinen grafiittikiinnityslevy tässä projektissa on kooltaan alle 0,01 neliömetriä, mutta siihen täytyy mahtua tarkasti lähes 1 500 mikroreikää, täydellinen valaisinsarja sisältää lähes 10 000 mikroreikää, joissa on erittäin ohuet seinämät reikien välissä. Korkean lämpötilan sintrauksen aikana 800–1000 °C:ssa kaikki pienetkin toleranssin ulkopuoliset reiän halkaisijat, sijainnin poikkeamat tai grafiitin pölyn irtoaminen johtavat suoraan metallitapin kallistumiseen, lasieristeen halkeamiseen tai jopa täydelliseen hermeettisyyden menettämiseen.
|
Pääjohtopäätös:Grafiittimateriaalin korkea hauraus, mikroreikien nopea kuluminen ja mikronitason kumulatiiviset toleranssit ovat keskeisiä laukaisimia, jotka johtavat 10 000 reiän tason grafiittikiinnitysten romuun. |
Ennen VeTekin teknisen työryhmän tuomista asiakas kohtasi koetuotannossa ja pienieräprosessoinnissa vakavia teknisiä pullonkauloja: Ensinnäkin mikroreiän reunojen halkeilu ja repeytys: Grafiitti on huokoinen hauras materiaali; suuritiheyksisten mikroreikien jatkuvassa porauksessa leikkausjännitys mikroporan sisään- ja ulostulohetkellä aiheuttaa helposti hauraita reunahalkeamia reiän suussa. Toiseksi työkalun mikrokulumisen aiheuttama toleranssipoikkeama: Kun työstetään tuhansia mikroreikiä jatkuvasti, hienojen poranterien kuluminen voimistuu, jolloin syvien reikien reikien halkaisijat osoittavat suippenevan gradientin, jossa vain muutaman mikronin poikkeama johtaa koko lähes 10 reikää sisältävän kiinnityssarjan rikkoutumiseen ja romuttamiseen. Kolmanneksi lämpölaajenemisen yhteensopimattomuus ja pölykontaminaatio: Tavallisten grafiittimateriaalien korkean lämpötilan CTE ei vastaa metallitappien CTE:tä, ja hieno pöly irtoaa helposti ja saastuttaa lasin sintrausrajapinnan.
|
Pääjohtopäätös:Työkalun rata-algoritmin optimoinnin, dynaamisen leikkausnopeuden kompensoinnin ja erityisten lohkeamisenestopinnoitettujen mikroporien avulla mikroreiän reunan lastutuksen ja syvän reiän toleranssin kertymisen haasteet on voitettu täysin. |
Vastatakseen 10 000 mikroreiän syvän koneistuksen vaikeuksiin VeTekin tutkimus- ja kehitystiimi rekonstruoi leikkauskinematiikkamallin ja otti käyttöön systemaattisen prosessisuunnittelun:
· Työkalupolun algoritmi ja syötteen rekonstruointi:Optimoitu syöttönopeus ja segmentoitu pyörimisnopeus ortogonaalisten kokeiden avulla. Mikrosyötön pulssisyöttöstrategia vähentää koneistuksen iskuleikkausvoimaa tehokkaasti yli 45 %, mikä eliminoi kokonaan reiän suuhalkeiluvirheet.
· Chippomisen estävät mikroporat ja lastunpoiston virtauskentän optimointi:Räätälöidyt erittäin hienorakeiset timanttipinnoitetut mikroporat yhdistettynä pulssipaineiseen alipaineiseen mikrojäähdytyslastunpoistojärjestelmään pidensivät työkalun kulutuskestävyyden käyttöikää yli 3 kertaa varmistaen, että reiän halkaisija 1500 mikroreiän poikki yksittäistä levyä kohti jää alle ±0,002 mm:n.
|
Prosessin parametri/mitta |
Alkuperäinen prosessi |
VeTekin optimoitu prosessi |
|
Mikroreiän koneistuksen syöttöstrategia |
Jatkuva nopea jatkuva syöksy (suuri iskuvoima) |
Segmentoitu vaiheittainen nopeus + mikrosyöttöpulssistrategia |
|
Mikroporatyökalun valinta |
Perinteinen pinnoittamaton mikrovolframikarbidipora |
Patentoitu erittäin hienorakeinen timanttipinnoitettu mikropora, joka estää lohkeamisen |
|
Syväreikäinen lastunpoisto ja jäähdytys |
Perinteinen ilmapuhalluslastunpoisto (jäännöspölyn kerääntyminen) |
Korkean alipaineisen pulssin dynaaminen imu + ilmavirran mikrosäätö |
|
Hole Mouth Chipping Control |
Reiän reunan lastutusaste > 8 % |
Suureikä täydellinen ja sileä, halkeamisaste < 0,05 % |
|
Pääjohtopäätös:Valikoitu, korkean lämmönjohtavuuden omaava erikoisgrafiitti, joka on täsmälleen yhteensopiva Kovar-seos CTE muodostaa suljetun kierron "Optical + CMM" -täydelliselle tarkastukselle ja ultraäänipuhdistukselle, jolloin 10 000 reikää toimitetaan ilman virheitä. |
Kuva 2 - Todelliset yksityiskohdat erityisestä grafiittikiinnityslevystä, jossa ei ole pintahalkeilua ja erittäin tarkka mikroreikäryhmä
· Materiaalin mukauttamisratkaisu:Tarkkaan valittu erittäin puhdas isostaattinen erikoisgrafiitti, jossa on tiheä mikrorakenne ja erinomainen lämmönkestävyys korkeissa lämpötiloissa. Sen lämpölaajenemiskerroin (CTE) vastaa hyvin Kovar-lejeeringin lämpölaajenemiskerrointa, mikä vähentää merkittävästi korkean lämpötilan sintrauksen lämpöjännitystä ja mikropölyn irtoamista.
· Yhteistyötarkastus ja syväpuhdistus:Laadunvalvontalinja esitteli täydentävän järjestelmän "Optical Image Measuring Instrument + Fully Automated Coordinate Measuring Machine (CMM)". Optinen kuvantaminen skannaa nopeasti 10 000 reiän ryhmän etäisyyden, kun taas CMM varmistaa syvän reiän kohtisuoran ja avaruudellisten urien sijainnit; lopuksi täydennettynä monivaiheisella gradienttiultraäänipuhdistuksella grafiittijäämien epäpuhtauksien poistamiseksi kokonaan syvältä mikrosokeista reikistä ja saavuttaen puolijohdetason puhtauden.
|
Pääjohtopäätös:Tarjoaa ammattimaisia teknisiä vastauksia koskien GTMS/CTMS-kiinnitysmateriaalien valintaa, mikroreikien toleranssirajoja ja käyttöikää korkeissa lämpötiloissa. |
Kuva 3 - VeTekin korkean tarkkuuden CNC-työstökeskus
K: Mikä on pienin reiän halkaisija ja äärimmäiset toleranssit suuritiheyksisten erityisten grafiittikiinnittimien mikroreikätyöstössä?
V:VeTekillä on mikrokoneistusominaisuudet alle 0,2 mm:n reikien halkaisijalle. Reikien halkaisijan toleransseja voidaan säätää vakaasti ±0,003 mm:n sisällä, ja todelliset pyöreys- ja sijaintitoleranssit 1 500 reiässä yhdellä levyllä saavuttavat ±0,005 mm, mikä täyttää täysin korkeatiheyksisten pintojen GTMS-pakkausvaatimukset.
K: Miksi GTMS:n hermeettisten sintrauslaitteiden on vastattava tarkasti Kovar-seoksen CTE:tä?
V:800–1000 °C:n sintrausjakson aikana, jos kiinnittimen ja metallitappien CTE ovat epäjohdonmukaisia, jäähtymisen supistumisen aiheuttama leikkausjännitys aiheuttaa tapin siirtymisen, lasirungon halkeilun tai tiivisteen rikkoutumisen. Tarkka CTE-sovitus varmistaa synkronoidun laajenemisen ja supistumisen, mikä parantaa hermeettistä tuottoa.
K: Kuinka ultraäänipuhdistusprosessi varmistaa, että grafiittipölyä ei jää syvien mikroreikien sisään?
V:Käytämme monitaajuista gradienttiultraäänigenerointijärjestelmää yhdistettynä deionisoituun veteen ja erikoispuhdistusaineisiin. Hyödyntämällä korkeataajuisia kavitaatioefektejä, hienot grafiittihiukkaset syvällä mikroreikien ja sokeiden reikien sisällä poistetaan kokonaan, mitä seuraa erittäin puhdas typpipuhallus ja tyhjiökuivaus puolijohdetason puhtaan kuljetuksen saavuttamiseksi.
Puolijohde- ja mikroelektroniikan hermeettisten pakkausten alalla kantoaineiden mikronitason koneistustarkkuus ja termodynaaminen stabiilisuus määräävät suoraan pakkausten tuoton ja laitteiden käytön. VeTek luottaa jatkuvaan erittäin puhtaiden materiaalien kerääntymiseen, tarkkuuskoneistukseen ja kriittisten puolijohdekomponenttien valmistukseen. VeTek voitti onnistuneesti teollisuustason valmistuksen esteen, jossa on 1 500 mikroreikää, jotka on järjestetty tiiviisti 0,01:lle.㎡ levy, joka toteuttaa erittäin luotettavan 10 000-reikäisten erityisten grafiittivalaisimien massatuotannon.
Koska valmistus yritys keskittyiCVD SiC:n, TaC-pinnoitteiden, kiinteän piikarbidin ja kriittisten puolijohdemateriaalien ja komponenttien kehittäminen, VeTek tarjoaa jatkuvasti korkean suorituskyvyn materiaaliratkaisuja puolijohteiden valmistukseen, kiteiden kasvuun ja korkean lämpötilan prosessikentille. Samaan aikaan VeTek vastaa käyttövaatimuksiin hermeettisessä pakkauksessa, korkeassa lämpötilassa tapahtuvassa sintrauksessa ja tarkassa paikannuksessa, ja se tarjoaa suunnittelupalveluita, kutenerittäin puhtaan grafiittimateriaalin valinta, tarkkuustyöstö ja räätälöity valmistustuki.
Jos etsit erittäin tarkkoja grafiittikomponentteja, jotka soveltuvat GTMS/CTMS-hermeettisiin tiivistysprosesseihin, tai tarvitset materiaalien sovittamista, rakenteellista optimointia ja näytevalidointia, ota rohkeasti yhteyttä VeTekin suunnittelutiimiin. Tarjoamme sinulle yhden luukun teknistä tukea materiaalivalinnasta tarkkuusvalmistukseen.
![]()
Kuva 4 - Panoraamanäkymä VeTekin erikoismateriaalien T&K- ja tarkkuusvalmistuspohjasta
+86-579-87223657
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, Jinhua City, Zhejiangin maakunta, Kiina
Copyright © 2024 WuYi TianYao New Material Tech.Co.,Ltd. Kaikki oikeudet pidätetään.
Links | Sitemap | RSS | XML | Tietosuojakäytäntö |