Kiinteä SiC-kaasusuihkupää

Kiinteä SiC-kaasusuihkupää

Vetek Semiconductor on integroitu yritys, joka on omistettu tutkimukselle, tuotantoon ja myyntiin. Vetek Semiconductor on työskennellyt puolijohde-epitaksissa, etsaus- ja muissa prosessissa oleviin tuotteisiin monien vuosien ajan, etenkin CVD-sic-pinnoite, CVD TAC -pinnoite ja CVD Solid SIC ovat lippulaivatuotteitamme.

Vetek Semiconductor Solid SIC -kaasu -suihkupäätä käytetään yleisesti jakamaan edeltäjäkaasut tasaisesti substraatin pinnalle puolijohde -CVD -prosessien aikana. CVD-SIC-materiaalin käyttäminen suihkupäille tarjoaa useita etuja. Sen korkea lämmönjohtavuus auttaa häviämään CVD -prosessissa syntyneen lämpöä, varmistaen substraatin tasaisen lämpötilan jakautumisen. Lisäksi CVD SIC -suihkupään kemiallinen stabiilisuus antaa sen kestämään syövyttäviä kaasuja ja ankaria ympäristöjä, joita yleisesti kohtaavat CVD -prosesseissa. 

CVD SiC -suihkupäiden suunnittelu voidaan räätälöidä tiettyjen CVD-järjestelmien ja prosessivaatimusten mukaan. Ne koostuvat kuitenkin tyypillisesti levyn tai kiekon muotoisesta komponentista, jossa on sarja tarkasti porattuja reikiä tai rakoja. Reikäkuvio ja geometria on suunniteltu huolellisesti varmistamaan tasainen kaasun jakautuminen ja virtausnopeus alustan pinnalla.

Kiinteän sic: n fysikaaliset ominaisuudet