Piikarbidipinnoite

Vetek Semiconductor on ammattimainen Kiinan valmistaja ja toimittaja, joka tuottaa pääasiassa sic -päällystetyt tukirenkaat, CVD -piikarbidi (sic) pinnoitteet, tantaalikarbidi (TAC). Olemme sitoutuneet tarjoamaan täydellistä teknistä tukea ja perimmäisiä tuoterratkaisuja puolijohdeteollisuudelle, tervetuloa ottamaan yhteyttä meihin.

Wafer chunk on kiekkojen kiinnitystyökalu puolijohdeprosessissa, ja sitä käytetään laajalti PVD-, CVD-, ETCH- ja muissa prosesseissa. Vetek Semiconductorin kiekkoistukka on keskeinen rooli puolijohteiden tuotannossa, mikä mahdollistaa nopean ja korkealaatuisen tuotannon. Oman valmistuksen, kilpailukykyisen hinnoittelun ja vankan T&K-tuen ansiosta Vetek Semiconductor on erinomainen tarkkuuskomponenttien OEM/ODM-palveluissa. Odotamme kyselyäsi.

ALD -prosessi tarkoittaa atomikerroksen epitaksiprosessia. Vetek Semiconductor- ja ALD -järjestelmien valmistajat ovat kehittäneet ja tuottaneet sic -päällystetyt ALD -planeetta -alttiit, jotka täyttävät ALD -prosessin korkeat vaatimukset ilmavirran tasaisesti substraatin yli. Samanaikaisesti korkea puhtaus CVD -sic -pinnoitteemme varmistaa prosessin puhtauden. Tervetuloa keskustelemaan yhteistyöstä kanssamme.

Vetek Semiconductor keskittyy CVD SiC -pinnoitteen ja CVD TaC -pinnoitteen tutkimukseen ja kehittämiseen sekä teollistamiseen. Esimerkkinä piikarbidipinnoite suskeptori, tuote on hyvin prosessoitu korkean tarkkuuden, tiheän CVD SIC -pinnoitteen, korkean lämpötilan kestävyyden ja vahvan korroosionkestävyyden ansiosta. Tiedustelusi meille on tervetullut.

CVD -sic -lohko sic -kidekasvulle on uusi korkea puhtaus raaka -aine, jonka on kehittänyt Vetek Semiconductor. Sillä on korkea syöttölähtösuhde ja se voi kasvattaa korkealaatuista, suurikokoista piikarbidi-yksittäisiä kiteitä, mikä on toisen sukupolven materiaali nykyään käytetyn jauheen korvaamiseksi. Tervetuloa keskustelemaan teknisistä kysymyksistä.

Vetek Semiconductorin erittäin korkea puhtaus piikarbidi (sic), joka on muodostettu kemiallisella höyryn laskeutumisella (CVD), suositellaan käytettäväksi lähdemateriaalina silikonikarbidikiteiden kasvattamiseksi fysikaalisen höyryn kuljetuksella (PVT). SiC Crystal Growth Uusi tekniikka lähdemateriaali ladataan upokkaaseen ja sublimoituu siemenkiteelle. Käytä suuria puhtaita CVD-SIC-lohkoja ollaksesi lähteenä kasvaville sic-kiteille. Tervetuloa perustamaan kumppanuus kanssamme.