Tuotteet

TAC-päällystettä käytetään tällä hetkellä pääasiassa prosesseissa, kuten piikarbidi yhden kidekasvun (PVT-menetelmä), epitaksiaalilevy (mukaan lukien piikarbidi-epitaksi, LED-epitaksi) jne. Yhdistettynä TAC-päällystyslevyn hyvään pitkäaikaiseen vakauteen, VeTeSeMiconin TAC-päällystyslevy on tullut TAC-päällystysosien vertailuarvoksi. Odotamme, että sinusta tulee pitkäaikainen kumppani.

Puolijohteiden valmistusprosessin keskeisenä kulutuksena huokoisella grafiitilla on korvaamaton rooli useissa linkeissä, kuten kristallin kasvu, seosta ja hehkutus. Huokoisen grafiitin ammattimaisena valmistajana Veek Semiconductor on sitoutunut tarjoamaan korkealaatuisia huokoisia grafiittituotteita kilpailukykyiseen hintaan, tervetulleeksi lisäkyselysi.

GAN: llä SIC EPI -herkkyydellä on tärkeä rooli puolijohdeprosessoinnissa sen erinomaisen lämmönjohtavuuden, korkean lämpötilan prosessointikyvyn ja kemiallisen stabiilisuuden kautta ja varmistaa GAN -epitaksiaalisen kasvuprosessin korkean tehokkuuden ja materiaalin laadun. Vetek Semiconductor on Kiinan ammattimainen Gan -valmistaja SIC EPI -alttiudesta, odotamme vilpittömästi innolla jatkamista.

CVD TAC -pinnoittimen kantaja on suunniteltu pääasiassa puolijohteiden valmistuksen epitaksiaaliseen prosessiin. CVD TAC -pinnoitteen kantaja-alan erittäin korkea sulamispiste, erinomainen korroosionkestävyys ja erinomainen lämpöstabiilisuus määrittävät tämän tuotteen välttämättömyyden puolijohde-epitaksiaalisessa prosessissa. Tervetuloa lisäkyselysi.

Vetekin CVD -sic -pinnoituspuhelinta käytetään pääasiassa SI -epitaksissa. Sitä käytetään yleensä piin pidennystynnyreiden kanssa. Siinä yhdistyvät CVD -sic -päällystyslaitteen ainutlaatuinen korkea lämpötila ja stabiilisuus, joka parantaa huomattavasti ilmavirran tasaista jakautumista puolijohteiden valmistuksessa. Uskomme, että tuotteemme voivat tuoda sinulle edistynyttä tekniikkaa ja korkealaatuisia tuotelaratkaisuja.

Vetek Semiconductorin CVD -sic -grafiittisylinteri on keskeinen puolijohdelaitteissa, jotka toimivat reaktoreiden suojaavana suojana sisäisten komponenttien turvaamiseksi korkean lämpötilan ja paineen asetuksissa. Se suojaa tehokkaasti kemikaaleja ja äärimmäistä lämpöä, säilyttäen laitteiden eheyden. Poikkeuksellisen kulumisen ja korroosionkestävyyden avulla se varmistaa pitkäikäisyyden ja vakauden haastavissa ympäristöissä. Näiden kansien hyödyntäminen parantaa puolijohdelaitteiden suorituskykyä, pidentää elinikäistä ja lievittää ylläpitovaatimuksia ja vahingoittaa riskejä.