Tuotteet

Kehittyneenä sic Sealing Part -tuotteen valmistajana ja tehtaalla Kiinassa. Vetek Semiconcto SIC -tiivisteosa on korkean suorituskyvyn tiivistyskomponentti, jota käytetään laajalti puolijohteiden prosessoinnissa ja muissa äärimmäisissä korkean lämpötilan ja korkeapaineprosesseissa. Tervetuloa edelleen kuulemiseen.

Vetek Semiconductor on ammattimainen alumiinioksidi -keraaminen tyhjiöskyselynvalmistaja ja tehdas Kiinassa. Alumiinioksidi-keraaminen tyhjiöpoika käyttää korkeavarjoa alumiinioksidikeramiikkaa, jolla on erinomainen lämmönkestävyys, kemiallinen vastus ja mekaaninen lujuus. Sitä käytetään pääasiassa kiekkojen ja substraattien korjaamiseen ja tukemiseen. Se on korkean suorituskyvyn laite puolijohteiden käsittelyyn. Tervetuloa lisäkyselyt.

Ammattimaisena kovan komposiittikuitutuotteen valmistajana ja toimittajana Kiinassa, Vetek Semiconductor Hard Composite -hiilikuituilma on korkealaatuinen materiaali, joka on suunniteltu korkean lämpötilan sovelluksiin, mikä tarjoaa erinomaisen lämmönkestävyyden ja eristyksen suorituskyvyn. Tätä tuotetta käytetään laajasti hiilihiilikomposiittisessa PECVD -kuormalavassa stabiilisuuden ja luotettavuuden varmistamiseksi ääriolosuhteissa. Tervetuloa edelleen kuulemiseen.

Ammattimaisena innovaattorina ja tantaalikarbidilla päällystettyjen rengastuotteiden johtajana Kiinassa Vetek Semiconductor -tantaalikarbidilla päällystetyllä renkaalla on korvaamaton rooli sic -kidekasvussa erinomaisella korkean lämpötilan vastustuskyvyn, kulutuskestävyyden ja erinomaisen lämmönjohtavuuden kanssa. Tervetuloa edelleen kuulemiseen.

Veek Semiconductorin piikarbidikiekkojen Chuckilla on johtava piikarbidikiekkojen valmistajan ja toimittajan Kiinassa, sillä se on korvaamaton rooli epitaksiaalisessa kasvuprosessissa sen erinomaisella korkean lämpötilankestävyydellä, kemiallisella korroosionkestävyydellä ja lämpöiskunkestävyydellä. Tervetuloa edelleen kuulemiseen.

Piharbidihuihkupäässä on erinomainen korkea lämpötilatoleranssi, kemiallinen stabiilisuus, lämmönjohtavuus ja hyvä kaasun jakautumisen suorituskyky, mikä voi saavuttaa tasaisen kaasun jakautumisen ja parantaa kalvon laatua. Siksi sitä käytetään yleensä korkean lämpötilan prosesseissa, kuten kemiallisen höyryn laskeutumisprosessit (CVD) tai fysikaaliset höyryn laskeutumisprosessit (PVD). Tervetuloa lisää neuvotteluasi meille, Vetek Semiconductor.