Sic -päällystetty syvä UV -LED -alttiu

Sic -päällystetty syvä UV -LED -alttiu on ydinlaakerikomponenttiMOCVD (metalli orgaaninen kemiallinen höyryn laskeuma) laitteet. Herkkuri vaikuttaa suoraan syvän UV -LED -epitaksiaalisen kasvun tasaisuuteen, paksuuden hallintaan ja materiaalin laatuun, etenkin alumiininitridin (ALN) epitaksiaalikerroksen kasvussa, jolla on korkea alumiinipitoisuus, alttiuden suunnittelu ja suorituskyky ovat tärkeitä.

SIC -päällystetty Deep UV -LED -alttiu on erityisesti optimoitu syvälle UV -LED -epitaksille, ja se on tarkkaan suunniteltu lämpö-, mekaanisten ja kemiallisten ympäristöominaisuuksien perusteella tiukat prosessivaatimukset.

Vetek Semiconductor käyttää edistynyttä prosessointitekniikkaa varmistaakseen alttiuden yhtenäisen lämmönjakauman käyttölämpötila-alueella välttäen lämpötilagradientin aiheuttaman epitaksiaalikerroksen epätasaisen kasvun. Tarkkuuskäsittely hallitsee pinnan karheutta, minimoi hiukkasten saastumisen ja parantaa kiekkojen pintakosketuksen lämmönjohtavuustehokkuutta.

Vetek -puolijohde käyttää SGL -grafiittia materiaalina, ja pinta käsitelläänCVD sic -päällyste, joka kestää NH3: n, HCl: n ja korkean lämpötilan ilmakehän pitkään. Vetek Semiconductorin SIC -päällystetty syvä UV -LED -herkkailija vastaa ALN/GAN -epitaksiaalisten kiekkojen lämpölaajennuskerrointa vähentäen kiekkojen vääntymistä tai halkeilua, joka johtuu prosessin aikana lämmönstressistä.

Tärkeintä on, että Vetek Semiconductorin SIC -päällystetty Deep UV -LED -alttiu mukautuu täydellisesti valtavirran MOCVD -laitteisiin (mukaan lukien Veeco K465i, EPIK 700, Aixtron Crius jne.). Tukee räätälöityjä palveluita kiekkokokolle (2 ~ 8 tuumaa), kiekkojen lähtö-, prosessilämpötila ja muut vaatimukset.

Sovellusskenaariot:

● Syvä UV -LED -valmistelu- Sovellettavissa kaistan epitaksiaaliseen prosessiin kaistalla alle 260 nm (UV-C-desinfiointi, sterilointi ja muut kentät).

● Puolijohdetiedosto- Käytetään puolijohdemateriaalien, kuten galliumnitridin (GAN) ja alumiininitridin (ALN) epitaksiaaliseen valmistukseen.

● Tutkimustason epitaksiaalikokeet- Syvä UV -epitaksi ja uusien materiaalikehityskokeet yliopistoissa ja tutkimuslaitoksissa.

Vahvan teknisen tiimin tuella Veek Semiconductor pystyy kehittämään alttiita, joilla on ainutlaatuiset eritelmät ja toiminnot asiakkaiden tarpeiden mukaan, tukemaan erityisiä tuotantoprosesseja ja tarjoamaan pitkäaikaisia ​​palveluita.

CVD -sic -pinnoituskalvon SEM -tiedot:

CVD -sic -pinnoitteen fysikaaliset ominaisuudet:

IT -puolijohdeSiC -päällystetty syvä UV -LED -alttiiden tuotekaupat: