Korkea puhtaus CVD sic raaka -aine

SemiconontorSIC Yksikristalliraaka -aine- Korkea puhtaus CVD -sic -raaka -aine. Tämä tuote täyttää kotimaisen aukon ja on myös johtavalla tasolla maailmanlaajuisesti, ja se on pitkän aikavälin johtavassa asemassa kilpailussa. Perinteiset piikarbidiraaka-aineet tuotetaan korkean puhtaan piin reaktiolla jagrafiitti, joiden kustannukset ovat korkeat, alhainen puhtaus ja pieni. 

Vetek Semiconductorin fluidisoitua sänkytekniikkaa käyttää metyylitriklorosilaania piikarbidiraaka-aineiden tuottamiseksi kemiallisen höyryn laskeutumisen kautta, ja pää sivutuote on suolahappo. Suolihappo voi muodostaa suoloja neutraloimalla alkalilla, eikä se aiheuta ympäristölle pilaantumista. Samanaikaisesti metyylitrikloorisilaani on laajalti käytetty teollisuuskaasu, jolla on edulliset ja laajat lähteet, etenkin Kiina on metyylitriklorosilaanin päätuottaja. Siksi Vetek Semiconductorin korkea puhtaus CVD -sic -raaka -aine on kansainvälinen johtava kilpailukyky kustannusten ja laadun suhteen. Korkean puhtauden CVD -sic -raaka -aineiden puhtaus on korkeampi kuin korkeampi kuin99,9995%.

Korkean puhtauden CVD -sic -raaka -aineen edut

 ● Suuri koko ja korkea tiheys

Keskimääräinen hiukkaskoko on noin 4-10 mm, ja kotimaisten Acheson-raaka-aineiden hiukkaskoko on <2,5 mm. Sama volyymipoikkeama voi pitää yli 1,5 kg raaka-aineita, mikä edistää suurten kidekasvumateriaalien riittämättömän tarjonnan ratkaisemista, lievittäen raaka-aineiden grafiitisointia, vähentämällä hiilen käärimistä ja kidekenteen laadun parantamista.

 ●Alhainen SI/C -suhde

Se on lähempänä kuin 1: 1 kuin itsemääräämismenetelmän Acheson-raaka-aineet, jotka voivat vähentää SI-osittaisen paineen nousun aiheuttamia vikoja.

 ●Korkea lähtöarvo

Kasvatut raaka -aineet ylläpitävät edelleen prototyyppiä, vähentävät uudelleenkiteyttämistä, vähentävät raaka -aineiden grafiittia, vähentävät hiilen käärevikoja ja parantavat kiteiden laatua.

● Suurempi puhtaus

CVD-menetelmällä tuotettujen raaka-aineiden puhtaus on korkeampi kuin itsekäyttöisen menetelmän Acheson-raaka-aineiden puhtaus. Typpipitoisuus on saavuttanut 0,09 ppm ilman lisäpuhdistusta. Tällä raaka-aineella voi olla myös tärkeä rooli puoliltaavassa kentässä.

● Alhaisemmat kustannukset

Yhdenmukainen haihtumisaste helpottaa prosessien ja tuotteiden laadunvalvontaa parantaen samalla raaka -aineiden käyttöastetta (käyttöaste> 50%, 4,5 kg: n raaka -aineita tuottaa 3,5 kg harkoja) vähentäen kustannuksia.

 ●Matala ihmisen virhetaso

Kemiallinen höyryn laskeutuminen välttää ihmisen toiminnan aiheuttamat epäpuhtaudet.

Vetek Semiconductor High puhtaasti CVD SIC -raaka -ainetuote kaupat: