CVD sic -päällysteinen kiekkotynnyrin pidike

Metalli orgaaninen kemiallinen höyryn laskeuma (MOCVD) on tällä hetkellä kuumin epitaksiaalikasvutekniikka, jota käytetään laajasti puolijohdelaserien ja LEDien, erityisesti Gan -epitaksin valmistuksessa. Epitaxy viittaa toisen yksittäisen kidekalvon kasvuun kidesubstraatilla. Epitaksiteknologia voi varmistaa, että äskettäin kasvatettu kristallikalvo on rakenteellisesti linjassa taustalla olevan kidesubstraatin kanssa. Tämä tekniikka mahdollistaa substraatin erityisominaisuuksien kalvon kasvun, mikä on välttämätöntä korkean suorituskyvyn puolijohdealaitteiden valmistukseen.

Kiekko tynnyripidike on epitaksiaalisen kasvun uunin avainkomponentti. CVD -sic -pinnoituskiekkopidikettä käytetään laajasti erilaisissa CVD -epitaksiaalisten kasvun uuneissa, etenkin MOCVD -epitaksiaalisten kasvuuunien.

Toiminnot ja FeCVD -sic -päällystetyn kiekkotynnyripidike

● Substraattien kuljetus- ja lämmitys: CVD -sic -päällystetyn tynnyriherkkurinsa käytetään substraattien kuljettamiseen ja tarvittavan lämmityksen tarjoamiseen MOCVD -prosessin aikana. CVD sic -päällysteinen kiekkotynnyrin pidike koostuu korkean puhtaan grafiitista ja sic-pinnoitteesta, ja sillä on erinomainen suorituskyky.

● tasaisuus: MOCVD -prosessin aikana grafiittitynnyrin pidike pyörii jatkuvasti epitaksiaalikerroksen tasaisen kasvun saavuttamiseksi.

● Lämpötabiili ja lämmön tasaisuus: SIC -päällystetyn tynnyriherkkyyden sic -pinnoitteella on erinomainen lämpöstabiilisuus ja lämpö yhdenmukaisuus, mikä varmistaa epitaksiaalikerroksen laadun.

● Vältä saastumista: CVD -sic -päällystetyllä kiekkotynnyrinpidikkeellä on loistava stabiilisuus, joten se ei tuota epäpuhtauksia, jotka putoavat käytön aikana.

● Erittäin pitkä käyttöikä: Sic -pinnoitteen takia CVD sic -päällysteinen BArrel -alttiulla on edelleen riittävä kestävyys MOCVD: n korkeassa lämpötilassa ja syövyttävissä kaasuympäristöissä.

Kaavio tynnyrin CVD -reaktorista

Vetek Semiconductorin CVD sic -päällysteisen kiekko -tynnyripidike

● Korkein räätälöinti: Grafiittisubstraatin materiaalikoostumus, sic -pinnoitteen materiaalikoostumus ja paksuus sekä kiekkojen haltijan rakenne voidaan räätälöidä asiakkaiden tarpeiden mukaan.

● Ollessaan muiden toimittajien edessä: Vetek Semiconductorin SIC -päällystetty grafiittitynnyriä EPI: lle voidaan myös räätälöidä asiakkaiden tarpeiden mukaan. Sisäseinällä voimme tehdä monimutkaisia ​​malleja vastatakseen asiakkaiden tarpeisiin.

Veek -puolijohde on perustamisesta lähtien sitoutunut jatkuvaan SIC -pinnoitustekniikan tutkimiseen. Nykyään Vetek Semiconductorilla on alan johtava sic -pinnoitustuotteen vahvuus. Vetek Semiconductor odottaa saavansa kumppanisi CVD sic -päällystetyissä kiekkojen tynnyrinpidikkeissä.

CVD -sic -pinnoitteen kalvokidirakenteen SEM -tiedot

CVD -sic -pinnoitteen fysikaaliset ominaisuudet