CVD SiC -pinnoitettu grafiittisuskeptori kiekkotelineeseen

1. Tuotteen edut

• Erittäin puhdas materiaali:Puolijohdelaatuinen grafiittimateriaali ja tiheä SiC-pinnoiterakenne minimoivat kontaminaatioriskit ja parantavat CVD SiC -pinnoitetun grafiittisuskeptorin luotettavuutta.
• Erinomainen lämpötasaisuus:Optimoitu grafiittirakenne ja SiC-pinnoite tarjoavat vakaan lämmönsiirron ja tasaisen kiekon lämpötilan hallinnan.
• Ylivoimainen kemiallinen kestävyys:Tiheä SiC-pinnoite tarjoaa vahvan kestävyyden prosessikaasuja ja syövyttäviä ympäristöjä vastaan.
• Pitkä käyttöikä:Korkea kovuus ja kulutuskestävyys parantavat kestävyyttä korkeissa lämpötiloissa.
• Pieni hiukkastuotanto:Tiheä CVD SiC -pinta vähentää hiukkasten vapautumista ja parantaa kiekkoprosessin luotettavuutta.
• Räätälöity suunnittelukyky:Saatavana eri kokoisina, rakenteina ja kokoonpanoina laitevaatimusten mukaan.

2. Tekniset tiedot

3. Sovellukset

• SiC-epitaksiprosessi:Grafiittisuskeptoria käytetään kiekon kantajana piikarbidin epitaksilaitteissa, jotka tukevat piikarbidialustoja korkean lämpötilan epitaksiaalisen kasvun aikana.
• Silicon Epitaxy -prosessi:Käytetään silikoniepitaksiaalisissa reaktoreissa kiekkojen tukemiseen ja vakaiden lämpöolosuhteiden ylläpitämiseen.
• MOCVD-epitaksi:VETEK-grafiittisuskeptorit soveltuvat MOCVD-, LED-, GaN-, pii-epitaksi- ja muihin puolijohteiden valmistusprosesseihin, jotka vaativat erinomaista lämpötasaisuutta ja kemiallista stabiilisuutta.
• Puolijohteiden valmistuslaitteet:Yhteensopiva useiden epitaksialustojen kanssa, mukaan lukien LPE-vaakauunit, Aixtron, NuFlare ja niihin liittyvät puolijohdelaitteet.

4. Miksi valita VETEK?

VETEK tarjoaa räätälöityjä CVD SiC -pinnoitettuja grafiittisuskeptoriratkaisuja, joissa on integroitu grafiitin puhdistus, tarkkuustyöstö, CVD-pinnoitus ja tarkastusominaisuudet. Puolijohdeluokan grafiittisuskeptorituotteidemme ominaisuuksia ovat korkea puhtaus, tasainen pinnoitteen paksuus, erinomainen lämpösuorituskyky ja pitkä käyttöikä vaativiin kiekkojen alustasovelluksiin.