Piikarbidipinnoite

Vetek Semiconductorin kiinteä sic -kiekko -kantaja on suunniteltu korkean lämpötilan ja korroosionkestäviin ympäristöihin puolijohteiden epitaksiaalisissa prosesseissa ja sopii kaikentyyppisiin kiekkojen valmistusprosesseihin, joilla on korkea puhtausvaatimus. Vetek Semiconductor on johtava kiekko-kantolaitteen toimittaja Kiinassa ja odottaa innolla tulevansa puolijohdeteollisuuden pitkäaikaiseen kumppaniksi.

SIC-päällystetyn satelliittikannen MOCVD: lle on korvaamaton rooli kiekkojen korkealaatuisen epitaksiaalisen kasvun varmistamisessa sen erittäin korkean lämpötilaresistenssin, erinomaisen korroosionkestävyyden ja erinomaisen hapettumiskestävyyden vuoksi.

Vetek Semiconductor on johtava puolijohdelaitteiden valmistaja Kiinassa ja ammattimainen valmistaja ja kiinteän sic-levynmuotoisen suihkupään toimittaja. Levymuoto -suihkupäätämme käytetään laajasti ohutkalvojen laskeutumistuotannossa, kuten CVD -prosessissa reaktiokaasun tasaisen jakautumisen varmistamiseksi ja se on yksi CVD -uunin ydinkomponenteista.

CVD -sic -päällystetty kiekkotynnyrinpidike on epitaksiaalisen kasvun uunin avainkomponentti, jota käytetään laajasti MOCVD -epitaksiaalisten kasvuuuneissa. Vetek Semiconductor tarjoaa sinulle erittäin räätälöityjä tuotteita. Riippumatta siitä, mitä tarpeitasi CVD sic -päällystetylle kiekko -tynnyrinhaltijalle on, tervetuloa kuulemaan meitä.

Vetek Semiconductor CVD sic -päällystetynnyri -herkkailija on tynnyrityyppisen epitaksiaalisen uunin ydinkomponentti. CVD -sic -pinnoitteen tynnyri -alttiuden avulla epitaksiaalisen kasvun määrä ja laatu paranee huomattavasti. VeteK -puolijohde on ammattivalmistaja ja jopa Kiinalaisen tynnyrin alttiiden toimittaja. Puolijohde odottaa luomaan läheisen yhteistyösuhteen sinuun puolijohdeteollisuudessa.

Vetek Semiconductor CVD sic -päällystyskiekko EPI -alttiu on välttämätön komponentti sic -epitaksin kasvulle, joka tarjoaa paremman lämmönhallinnan, kemiallisen resistenssin ja ulottuvuuden stabiilisuuden. Valitsemalla Vetek Semiconductorin CVD sic -päällyste kiekko EPI -alttiita, parannat MOCVD -prosessien suorituskykyä, mikä johtaa korkealaatuisiin tuotteisiin ja parempaan tehokkuuteen puolijohdevalmistustoiminnoissa. Tervetuloa lisäkyselyt.