Kvartsikaasun jakelulevy

Kvartsikaasun jakelulevyt, jotka tunnetaan myös nimellä kvartsisuihkupäät, ovat kriittisiä komponentteja puolijohteiden valmistuksessa. Hyödyntämällä kvartsin poikkeuksellista puhtautta, korkean lämpötilan resistenssiä ja korroosionkestävyyttä, nämä levyt varmistavat prosessikaasujen tasaisen ja vakaan virtauksen kiekkojen pinnalle. Tämä tarkka toimitus on välttämätöntä talletettujen elokuvien tai syövytettyjen ominaisuuksien laadun ja tasaisuuden ylläpitämiseksi.

Korkeuden sulatetun kvartsin keskeiset piirteet

● Materiaali: 99,99%korkean puhtaan sulatettu kvartsi

● Korkea lämpötilankestävyys: Kestää yli 1000 ℃ lämpötiloja

● Korroosionkestävyys: Erinomainen kestävyys prosessikaasuja ja plasmaympäristöjä vastaan

● Tarkkuuskaasun virtaus: Tasainen mikroreiän jakauma kaasun optimaaliseen jakeluun ja laskeutumisen yhtenäisyyteen

● muokattava muotoilu: Koko, reikäkuvio ja kiinnitysominaisuudet voidaan räätälöidä tietyille laitteiden malleille

Ydinroolit puolijohteiden valmistuksessa

1.

Rooli: PVD- ja CVD -prosesseissa kaasun jakautumislevy ohjaa tarkasti reaktiivisia kaasuja (esim. Silaani, ammoniakki, happi) tai esiasteita kiekkoon halutun ohutkalvon muodostamiseksi.

Erityiset käyttötarkoitukset:

● Yhdenmukaisuusohjaus: Levyn tarkkaan suunnitellut mikro-reiket varmistavat, että kaasuvirta ja pitoisuus ovat tasaiset koko kiekkojen pinnalla. Tämä on elintärkeää kalvojen tallettamiseen, joiden paksuus ja suorituskyky on jatkuvasti.

● Kontaminaation ehkäisy: Kvartsin korkea puhtaus estää levyä reagoimasta prosessikaasujen kanssa tai vapauttamasta epäpuhtauksia. Tämä ylläpitää elokuvan puhtautta ja estää vikoja kiekkojen pinnalla.

2. Plasmaparannettu kemiallinen höyryn laskeuma (PECVD)

Rooli: PECVD: ssä kvartsi -suihkupää ei vain toimittaa reaktiivisia kaasuja, vaan toimii myös elektrodina plasman muodostumiselle.

Erityiset käyttötarkoitukset:

● Plasman sytytys: Suihkupää on tyypillisesti kytketty radiotaajuiseen virtalähteeseen plasman luomiseksi. Plasman korkean energian hiukkaset edistävät kaasumaisten reagenssien hajoamista, mikä mahdollistaa kalvon laskeutumisen alhaisemmissa lämpötiloissa.

● Lämpötabiili: kvartsilla on erinomainen lämpöstabiilisuus, jolloin se kestää korkean lämpötilan plasmaympäristöä. Tämä auttaa ylläpitämään yhtenäistä lämpötilaa prosessikammiossa varmistaen edelleen kalvon laadun ja johdonmukaisuuden.

3. Kuiva etsaus

Rooli: Kuivassa etsauksessa kaasun jakautumislevy tuo reaktiivisia etsauskaasuja (esim. Fluorihiilivetyjä, klooria) etsauskammioon.

Erityiset käyttötarkoitukset:

● ETCH -yhtenäisyys: Levy varmistaa tasaisen syövykaasujen virtauksen ja pitoisuuden, mikä takaa tasaisen syövytyksen syvyyden ja profiilin koko kiekossa. Tämä on ratkaisevan tärkeää edistyneille puolijohdelaitteille tarvittavien tarkkojen kuvioiden saavuttamiseksi.

● Korroosionkestävyys: Etsakaasujen voimakkaat syövyttävät ominaisuudet vaativat kestävää materiaalia. Kvartsin korkea korroosionkestävyys pidentää suihkupään elinkaaren ja vähentää prosessien keskeytymisriskiä.

4. kiekkojen puhdistus

Rooli: Erityisissä kiekkojen puhdistusprosesseissa kvartsikaasujen jakautumislevyä käytetään puhdistamaan kaasujen (esim. Otsoni, ammoniakki) tasaisesti kiekkojen pintaan tähteiden tai epäpuhtauksien poistamiseksi.

Erityiset käyttötarkoitukset:

● Jatkuva puhdistus: Levy varmistaa, että puhdistuskaasut saavuttavat kiekon kaikki osat, mikä mahdollistaa perusteellisen ja tasaisen puhdistusprosessin.

● Kemiallinen yhteensopivuus: Kvartsin yhteensopivuus monien puhdistuskemikaalien kanssa estää reaktioita ja ylläpitää puhdistusprosessin puhtautta ja tehokkuutta.