Uutiset

SiC:llä on korkea kovuus, lämmönjohtavuus ja korroosionkestävyys, joten se on ihanteellinen puolijohteiden valmistukseen. CVD SiC -pinnoite luodaan kemiallisen höyrypinnoituksen avulla, mikä tarjoaa korkean lämmönjohtavuuden, kemiallisen stabiilisuuden ja vastaavan hilavakion epitaksiaalista kasvua varten. Sen alhainen lämpölaajeneminen ja korkea kovuus takaavat kestävyyden ja tarkkuuden, joten se on välttämätön sovelluksissa, kuten kiekkojen alustassa, esilämmitysrenkaissa ja muissa sovelluksissa. VeTek Semiconductor on erikoistunut räätälöityihin SiC-pinnoitteisiin erilaisiin teollisuuden tarpeisiin.

Piharbidi (SiC) on erittäin tarkka puolijohdemateriaali, joka tunnetaan sen erinomaisista ominaisuuksista, kuten korkean lämpötilankestävyydestä, korroosionkestävyydestä ja korkeasta mekaanisesta lujuudesta. Siinä on yli 200 kiderakennetta, ja 3C-SIC on ainoa kuutiotyyppi, joka tarjoaa erinomaisen luonnollisen pallomuuden ja tiheyden muihin tyyppeihin verrattuna. 3C-SIC erottuu sen korkeasta elektronien liikkuvuudesta, mikä tekee siitä ihanteellisen mosfetsille tehoelektroniikassa. Lisäksi se osoittaa suurta potentiaalia nanoelektroniikassa, sinisissä LEDissä ja antureissa.

Diamond, potentiaalinen neljännen sukupolven "lopullinen puolijohde", on kiinnittämässä huomiota puolijohdesubstraateissa sen poikkeuksellisen kovuuden, lämmönjohtavuuden ja sähköisten ominaisuuksien vuoksi. Vaikka sen korkeat kustannukset ja tuotantohaasteet rajoittavat sen käyttöä, CVD on suositeltava menetelmä. Doping- ja suuren alueen kidesaasteista huolimatta Diamond pitää lupaavaa.

SiC ja GaN ovat laajakaistaisia ​​puolijohteita, joilla on piihin verrattuna etuja, kuten korkeammat läpilyöntijännitteet, nopeammat kytkentänopeudet ja erinomainen tehokkuus. SiC on parempi suurjännite- ja tehosovelluksiin korkeamman lämmönjohtavuutensa ansiosta, kun taas GaN loistaa korkeataajuisissa sovelluksissa erinomaisen elektronien liikkuvuuden ansiosta.

Elektronisäteen haihtuminen on erittäin tehokas ja laajalti käytetty pinnoitusmenetelmä verrattuna vastuslämmitykseen, joka lämmittää haihdutusmateriaalin elektronisäteellä, aiheuttaen sen höyrystymisen ja tiivistyvän ohutkalvoksi.

Tyhjiöpäällyste sisältää kalvomateriaalin höyrystymisen, tyhjiökuljetuksen ja ohuen kalvon kasvun. Eri kalvomateriaalimateriaalien höyrystymismenetelmien ja kuljetusprosessien mukaan tyhjiöpinnoite voidaan jakaa kahteen luokkaan: PVD ja CVD.