Tekniikka & ratkaisut

Oikean CVD SiC:n, TaC-pinnoitteen tai kiinteän piikarbidin valitseminen määrittää suoraan hiukkastason ja komponenttien käyttöiän epitaksi-/etsauslinjoilla. Tämä artikkeli tarjoaa selkeät valintarajat lämpötilan, ilmakehän ja prosessin mukaan sekä tärkeimpien laitteiden vaihtoratkaisujen ja keskeisten mittareiden kanssa, jotta voit tehdä nopeita päätöksiä ja vähentää riskejä.

Tutustu, kuinka VeTekin vesiohjattu lasertekniikka tuottaa tasaiset Φ0,15 mm:n läpimenevät reiät 2 mm:n SiC-substraateissa ilman kapenemista, minimaalista HAZ:ia ja korkeaa tuottoa puolijohdesovelluksiin.

Puolijohdelaitteiden onttojen nostotappien haastavin tekninen ongelma ei ole ulkopinnan pinnoite, vaan vakaan ja yhtenäisen CVD-pinnoitteen saavuttaminen onton rakenteen sisäseinässä. Sisäseinän pinnoitteen tasaisuuden valvonnasta sisäisen porauksen puhtauden varmistamiseen, jokainen prosessivaihe vaikuttaa suoraan kiekkojen saantoon. Tässä artikkelissa analysoidaan onttojen nostotappien sisäseinien pinnoitteen keskeisiä haasteita ja tärkeimpiä teknisiä polkuja.