CVD TAC -päällyste upokas

TAC -pinnoitteen kierto -alttiulla on avainasemassa korkean lämpötilan laskeutumisprosesseissa, kuten CVD ja MBE, ja se on tärkeä komponentti kiekkojen prosessoinnissa puolijohteiden valmistuksessa. Heidän joukossaan,TAC -päällysteSillä on erinomainen korkea lämpötilankestävyys, korroosionkestävyys ja kemiallinen stabiilisuus, mikä varmistaa korkean tarkkuuden ja korkean laadun kiekkojen prosessoinnin aikana.

CVD TAC -päällyste Crucible koostuu yleensä TAC -pinnoitteesta jagrafiittisubstraatti. Niistä TAC on korkea sulamispisteen keraaminen materiaali, jonka sulamispiste on jopa 3880 ° C. Sillä on erittäin suuri kovuus (Vickers -kovuus saakka 2000 HV), kemiallinen korroosionkestävyys ja voimakas hapettumiskestävyys. Siksi TAC -pinnoite on erinomainen korkean lämpötilankestävä materiaali puolijohdekäsittelytekniikassa.

Grafiittialustalla on hyvä lämmönjohtavuus (lämmönjohtavuus on noin 21 paino/m · K) ja erinomainen mekaaninen stabiilisuus. Tämä ominaisuus määrittää, että grafiitista tulee ihanteellinen pinnoitesubstraatti.

CVD TAC -päällyste Crucible käytetään pääasiassa seuraavassa puolijohteenkäsittelytekniikassa:

Kiekkojen valmistus: VETEK Semiconductor CVD TAC -pinnoitteen upokas on erinomainen korkea lämpötilankestävyys (sulamispiste jopa 3880 ° C: iin) ja korroosionkestävyyteen, joten sitä käytetään usein kiekkojen valmistusprosesseissa, kuten korkean lämpötilan höyryn laskeutumisessa (CVD) ja epitaksiaalisen kasvun. Yhdistettynä tuotteen erinomaiseen rakenteelliseen stabiilisuuteen erittäin korkeissa lämpötilaympäristöissä se varmistaa, että laitteet voivat toimia vakaasti pitkään erittäin ankarissa olosuhteissa, parantaen siten tehokkaasti kiekkojen tuotannon tehokkuutta ja laatua.

Epitaksiaalinen kasvuprosessi: Epitaksiaalisissa prosesseissa, kutenKemiallinen höyryn laskeuma (CVD)ja molekyylisäteen epitaksi (MBE), CVD TAC -päällysteellä Crucible on avainasemassa kuljetuksessa. Sen TAC -pinnoite ei voi vain ylläpitää materiaalin korkeaa puhtautta äärimmäisen lämpötilan ja syövyttävän ilmakehän alla, vaan myös tehokkaasti estää reagenssien saastumisen materiaaliin ja reaktorin korroosioon, varmistaen tuotantoprosessin ja tuotteiden konsistenssin tarkkuuden.

Kiinan johtavana CVD TAC -päällysteellä upokkaiden valmistaja ja johtaja Vetek Semiconductor voi tarjota räätälöityjä tuotteita ja teknisiä palveluita laitteidesi ja prosessivaatimusten mukaisesti. Toivomme vilpittömästi tulevan pitkäaikaiseen kumppanisi Kiinassa.

Tantaalikarbidi (TAC) pinnoite mikroskooppisella poikkileikkauksella：

TAC -pinnoitteen fysikaaliset ominaisuudet：

IT -puolijohde CVD TAC -päällystepoikakaupat ：