Epi -kiekon haltija

Vetek Semiconductor tukee räätälöityjä tuotepalveluita, joten Epi -kiekkojen haltija voi tarjota sinulle räätälöityjä tuotepalveluitavohveli(100 mm, 150 mm, 200 mm, 300 mm jne.). Toivomme vilpittömästi olevan pitkäaikainen kumppanisi Kiinassa.

Epi -kiekkojen haltijoiden toiminta ja toimintaperiaate

Puolijohteiden valmistuksen alueella epitaksiprosessi on ratkaisevan tärkeä korkean suorituskyvyn puolijohdealaitteiden valmistukseen. Tämän prosessin ytimessä on Epi -kiekkojen haltija, jolla on keskeinen rooli varmistamisessaepitaksiaalikasvu.

Epi -kiekkojen haltija on ensisijaisesti suunniteltu pitämään kiekko turvallisesti epitaksiprosessin aikana. Sen keskeinen tehtävä on ylläpitää kiekoa tarkasti ohjattavassa lämpötila- ja kaasuvirtaympäristössä. Tämä huolellinen ohjaus mahdollistaa epitaksiaalimateriaalin kerrostumisen tasaisesti kiekkojen pinnalle, mikä on kriittinen askel tasaisten ja korkealaatuisten puolijohdekerrosten luomisessa.

Epitaksiprosessille tyypillisissä korkean lämpötilan olosuhteissa EPI -kiekkopidike on erinomainen toiminnassaan. Se kiinnittää kiekon tiukasti reaktiokammioon välttäen tarkasti mahdollisia vaurioita, kuten naarmuja, ja estämällä hiukkasten saastumisen kiekkojen pinnalla.

Materiaalin ominaisuudet:MiksiPiharbidi (sic)Paistaa

Epi -kiekkojen haltijat on usein valmistettu piikarbidista (sic), materiaalista, joka tarjoaa ainutlaatuisen yhdistelmän hyödyllisiä ominaisuuksia. SIC: n lämpölaajennuskerroin on noin 4,0 x 10 ° C. Tämä ominaisuus on keskeinen ylläpitää pidikkeen mitat stabiilisuutta kohonneissa lämpötiloissa. Minimoimalla lämmönlaajennus, se estää tehokkaasti kiekon stressiä, joka muuten voi johtua lämpötilaan liittyvistä koon muutoksista.

Lisäksi sic tarjoaa erinomaisen korkean lämpötilan vakauden. Se voi kestää saumattomasti korkeita lämpötiloja, jotka vaihtelevat 1 200 ° C: sta 1 600 ° C: seen, vaaditaan epitaksiprosessissa. Yhdistettynä sen poikkeukselliseen korroosionkestävyyteen ja ihailtavaan lämmönjohtavuuteen (yleensä välillä 120 - 160 w/mk), SIC syntyy optimaalisena valintana epitaksiaalisten kiekkojen haltijoille.

Epitaksiaaliprosessin keskeiset toiminnot

Epi -kiekon haltijan merkitystä epitaksiaalisessa prosessissa ei voida yliarvioida. Se toimii vakaana kantajana korkean lämpötilan ja syövyttävien kaasuympäristöjen alla, varmistaen, että kiekko pysyy vaikuttamatta epitaksiaalisen kasvun aikana ja edistää epitaksiaalikerroksen tasaista kehitystä.

1.Wafer -kiinnitys ja tarkka kohdistusKorkea - tarkkuussuunniteltu EPI -kiekkojen haltija sijoittaa kiekon tiukasti reaktiokammion geometriseen keskukseen. Tämä sijoitus takaa, että kiekkojen pinta muodostaa ihanteellisen kosketuskulman reaktiokaasun virtauksella. Tarkka kohdistus ei ole vain välttämätöntä tasaisen epitaksiaalikerroksen laskeutumisen saavuttamiseksi, vaan myös merkittävästi vähentää kiekkojen aseman poikkeamasta johtuvaa stressipitoisuutta.

2.Ohjelman lämmitys ja lämpökentän ohjausHyödyntämällä sic -materiaalin erinomaista lämmönjohtavuutta, Epi -kiekkojen pidike mahdollistaa tehokkaan lämmönsiirron kiekkoon korkean lämpötilan epitaksiaalisessa ympäristössä. Samanaikaisesti se käyttää hienoa hallintaa lämmitysjärjestelmän lämpötilan jakautumisessa. Tämä kaksoismekanismi varmistaa tasaisen lämpötilan koko kiekkojen pinnalla, poistaen tehokkaasti liiallisten lämpötilagradienttien aiheuttamat lämpöjännitykset. Seurauksena on, että kiekkojen vääntymisen ja halkeamien, kuten kiekkojen ja halkeamien, todennäköisyys on huomattavasti minimoitu.

3.Partikkelin saastumisen hallinta ja materiaalin puhtausKorkean puhtauden sic -substraattien ja CVD -päällystetyn grafiittimateriaalin käyttö on pelinvaihtaja hiukkasten saastumisen hallinnassa. Nämä materiaalit rajoittavat huomattavasti hiukkasten muodostumista ja diffuusiota epitaksiprosessin aikana tarjoamalla koskemattoman ympäristön epitaksiaalikerroksen kasvulle. Vähentämällä rajapintavirheitä ne parantavat epitaksiaalikerroksen laatua ja luotettavuutta.

4.Corrosion -vastusAikanaMOCVDTai LPCVD -prosessit, Epi -kiekkojen pidikkeen on kestävä syövyttäviä kaasuja, kuten ammoniakkia ja trimetyyli galliumia. SIC -materiaalien erinomainen korroosionkestävyys antaa haltijoille pidentyneen käyttöiän, mikä takaa koko tuotantoprosessin luotettavuuden.

Vetek Semiconductor -sovelluksen mukautetut palvelut

Vetek -puolijohde on sitoutunut tyydyttämään monipuoliset asiakkaiden tarpeet. Tarjoamme räätälöityjä EPI -kiekkojen haltijapalveluita, jotka on räätälöity erilaisiin kiekkoihin, mukaan lukien 100 mm, 150 mm, 200 mm, 300 mm ja sen jälkeen. Asiantuntijatiimimme on omistautunut toimittamaan korkealaatuisia tuotteita, jotka vastaavat tarkalleen vaatimuksiasi. Odotamme vilpittömästi tulemaan pitkään - termi -kumppanisi Kiinassa, tarjoamalla sinulle huippuluokan puolijohderatkaisut.

CVD -sic -kalvon kiderakenteen SEM -tiedot:

CVD -sic -pinnoitteen fysikaaliset ominaisuudet：

Vertailu Semiconductor Epi -kiekkojen haltijan tuotantokaupat: