CVD TAC -päällyste

CVD TAC -pinnoite (kemiallinen höyryn laskeuma tantaalikarbidipäällyste) on päällystetuote, joka koostuu pääasiassa tantaalikarbidista (TAC). TAC -pinnoitteella on erittäin korkea kovuus, kulutuskestävyys ja korkea lämpötilankestävyys, mikä tekee siitä ihanteellisen valinnan avainlaitteiden komponenttien suojaamiseksi ja prosessien luotettavuuden parantamiseksi. Se on välttämätön materiaali puolijohteiden käsittelyssä.

CVD TaC Coating -tuotteita käytetään yleensä reaktiokammioissa, kiekkojen alustassa ja etsauslaitteissa, ja niillä on niissä seuraavat avainroolit.

CVD TAC -pinnoite käytetään usein reaktiokammioiden, kuten substraattien, seinäpaneelien ja lämmityselementtien, sisäisiin komponentteihin. Yhdistettynä erinomaiseen korkean lämpötilankestävyyteen, se voi tehokkaasti vastustaa korkean lämpötilan, syövyttävien kaasujen ja plasman eroosiota, pidentäen siten laitteiden käyttö käyttöikää tehokkaasti ja varmistamalla prosessin vakauden ja tuotteen tuotannon puhtauden.

Lisäksi TaC-pinnoitetuilla kiekkotelineillä (kuten kvartsiveneillä, kalusteilla jne.) on myös erinomainen lämmönkestävyys ja kemiallinen korroosionkestävyys. Kiekkojen alusta voi tarjota luotettavan tuen kiekolle korkeissa lämpötiloissa, estää kiekkojen kontaminoitumisen ja muodonmuutoksia ja parantaa siten lastun kokonaissaantoa.

Lisäksi VeTek Semiconductorin TaC-pinnoitetta käytetään laajalti erilaisissa etsaus- ja ohutkalvopinnoituslaitteissa, kuten plasmaetchereissa, kemiallisissa höyrypinnoitusjärjestelmissä jne. Näissä käsittelyjärjestelmissä CVD TAC Coating kestää suurienergisiä ionipommituksia ja voimakkaita kemiallisia reaktioita. , mikä varmistaa prosessin tarkkuuden ja toistettavuuden.

Riippumatta erityisvaatimuksistasi, sovitamme parhaan ratkaisun CVD -TAC -pinnoitustarpeisiisi ja odotamme kuulemistasi milloin tahansa.

VeTek Semiconductor CVD TAC Coating -tuotteiden kaupat:

Yleiskatsaus puolijohdekaupan epitaksiteollisuusketjusta: