Uutiset

Olen työskennellyt puolijohdeteollisuudessa jo yli kymmenen vuoden ajan, ymmärrän ensin, kuinka haastava materiaalivalinta voi olla korkean lämpötilan suuritehoisissa ympäristöissä. Vasta kun tapasin Vetekin SIC -lohkon, löysin vihdoin todella luotettavan ratkaisun.

Veteksemicon loistaa vuoden 2025 Shanghai SEMICON -näyttelyssä, joka johtaa puolijohdeteollisuuden tulevaisuutta innovatiivisilla teknologioilla

Puolijohteiden valmistusteollisuudessa, kun laitteen koko jatkuu, ohutkalvomateriaalien kerrostumitekniikka on asettanut ennennäkemättömät haasteet. Atomikerroksen laskeuma (ALD), ohuena kalvon laskeutumistekniikkana, joka voi saavuttaa tarkan hallinnan atomitasolla, on tullut välttämätön osa puolijohteiden valmistusta. Tämän artikkelin tarkoituksena on ottaa käyttöön prosessivirta ja ALD: n periaatteet auttaa ymmärtämään sen tärkeätä roolia edistyneessä siruvalmistuksessa.